8月5日，我国半导体领域迎来重大突破：璞璘科技自主研发的首台PL-SR系列纳米压印光刻机正式交付国内客户。该设备可实现线宽小于10nm的芯片制造，标志着中国在高端半导体装备领域迈出了里程碑式的一步。
纳米压印光刻（NIL）技术通过机械压印替代传统光学曝光，具有成本低、能耗小、分辨率高等优势。璞璘科技此次突破的关键技术包括：非真空完全贴合工艺、喷胶与薄胶压印控制、残余层厚度优化等，成功解决了纳米级压印的精度与稳定性难题。其自主研发的模板面型控制系统，更实现了石英模板与硅晶圆的完美贴合，残余层厚度控制在2nm以内，达到国际领先水平。
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