在芯片制造领域，EUV 极紫外光刻机长期以来被视为生产先进制程芯片，尤其是 7nm 以下芯片的关键设备。不过，近来一项技术突破打破了这一固有认知 —— 无需 EUV 光刻机，也能成功生产 5nm 芯片，甚至 3nm 制程也在稳步推进当中。
此前，世界上出现了一种不走寻常路的 5nm 技术。该技术摒弃了对 EUV 光刻机的依赖，另辟蹊径采用步进扫描光刻机，借助多重曝光技术达成了 5nm 线宽。在芯片制造流程里，光刻机承担着 “画工” 的角色，它把掩模上的电路图案，通过光学系统投射到涂有光刻胶的硅片上，以此确定芯片的制程。而在光刻结束后，刻蚀机便开始发挥作用，它如同 “雕工”，按照光刻机标注的图案，将硅片上多余的部分去除，只留下需要的部分。此次用于 5nm 芯片制造的刻蚀设备，精度达到原子级，刻蚀速率相较于以往提升了 15%。同时，量测设备也采用了全新的电子束量测系统，能够实现 nm 级别的缺陷检测。
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