近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）首席执行官傅恪礼坦言，中国已着手研发国产光刻设备。与此同时，中科院传来捷报，其研发的固态深紫外（DUV）激光源技术取得重大突破，这一成果为半导体工艺迈向 3nm 制程提供了有力支撑。
页码:下一页
ASML 承认中国光刻进展：中科院 DUV 光源技术，剑指 3nm 芯片制造
2025-06-09最新文章
- Rambus发布第二代CKD芯片：DDR5内存原生速率突破9600MT/s
-
数码
阅读12102
- 惠普EliteBook X G2q海外上市：骁龙X2平台加持，顶配1800P高刷OLED屏
-
数码
阅读14300
- REDMI Note 17R获进网许可：或首发骁龙4 Gen 4，6月有望亮相
-
数码
阅读16686
- be quiet! 暗岩6系列风冷上市：300W解热与静音模式兼顾，售价699元起
-
数码
阅读19151
- 叙 Thypoch 发布 Ksana 刹那 35mm f/2：全铜复古手动镜头，售价 3699 元
-
数码
阅读12738